氯化氢与粗硅反应-氯化氢和粗硅反应
文章阐述了关于氯化氢与粗硅反应，以及氯化氢和粗硅反应的信息，欢迎批评指正。
文章信息一览：
- 1、...得含少量杂质的粗硅,②将粗硅在高温下与氯气反应生成四氯化硅...
- 2、粗硅提纯要什么条件?
- 3、...基础材料.通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷...
- 4、为什么粗硅可以溶解在稀盐酸中而纯硅却不能
- 5、...流程如图所示:(1)三氯氢硅的制备原理:Si(s)+3HCl(g)
- 6、化学大佬进!
...得含少量杂质的粗硅,②将粗硅在高温下与氯气反应生成四氯化硅...
步骤：用焦炭与石英砂（SiO2）混合高温，产生粗硅。（SiO2+2C=高温=Si+2CO↑）将粗硅与氯气高温，生成四氯化硅。（Si+2Cl2=高温=SiCl4）将氢气与四氯化硅高温，生成单晶硅。
先与焦炭在高温下反应生成粗硅。粗硅与氯气反应生成四氯化硅。蒸馏分离得到纯净的四氯化硅。最后四氯化硅被氢气还原成硅单质。硅极少以单质的形式在自然界出现，而是以复杂的硅酸盐或二氧化硅的形式，在地壳中，硅是第二丰富的元素，构成地壳总质量的24%，仅次于第一位的氧。
II，4H++2Cl-+MnO2=Mn2++Cl2↑+2H2O，（2）二氧化锰，干燥氯气，去除水分。（3）冷凝四氯化硅，（4）不合理，吸收不完全。
粗硅提纯要什么条件?
1、方法一：（1）SiO2+2C=（条件：3270K）Si+2CO （2）Si（粗）+2Cl2（g）==（720~770k）==SiCl4（l）（3） SiCl4+2H2==电炉==Si（纯）+4HCl 方法二：（1）Si（粗）+3HCl（g）==可逆（520~570k）==SiHCl3（l）+H2（g）（2）精馏方法，提纯SiHCl3 （3）提纯后再用氢气还原。
2、工业制取粗硅的化学方程式是工业上用二氧化硅和碳高温反应生成粗硅和一氧化碳 sio2+2c=si+co↑（反应条件是高温）这里sio2是氧化剂，c是还原剂。
3、晶体硅包括单晶硅和多晶硅，晶体硅的制备方法大致是先用碳还原SiO2成为Si，用HCl反应再提纯获得更高纯度多晶硅，单晶硅的制法通常是先制得多晶硅或无定形硅，然后用直拉法或悬浮区熔法从熔体中生长出棒状单晶硅。
4、粗硅提纯需要干燥以去除杂质。粗硅是一种含有杂质的硅材料，其中包含水分、氧化物、有机物等。在粗硅提纯过程中，干燥是必要的步骤之一，其主要目的是去除杂质。干燥可以通过加热粗硅样品，将其中的水分蒸发掉，从而减少水分对提纯过程的干扰。
5、步骤：用焦炭与石英砂（SiO2）混合高温，产生粗硅。（SiO2+2C=高温=Si+2CO↑）将粗硅与氯气高温，生成四氯化硅。（Si+2Cl2=高温=SiCl4）将氢气与四氯化硅高温，生成单晶硅。
6、利用掺杂硅与单晶硅的熔点差异来提纯的。简单说一块粗硅圆柱体置于惰性气体环境中，中间套一个加热环，加热到硅的熔点附近，加热环从硅圆柱体一段开始，含杂质的硅熔点较低，呈熔融状态，然后加热环缓慢的向另一端移动，这时候杂质会随着加热环的移动向一段移动，后面的硅重新结晶得到单晶硅。
...基础材料.通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷...
在高温下，二氧化硅（SiO2）与碳（C）反应制备粗硅的过程中，生成一氧化碳（CO）而不是二氧化碳（CO2）的原因在于反应条件。 为了确保二氧化硅中的硅（Si）能够完全被还原，反应中必须保证碳是过量的。 在碳过量的环境中，即使有二氧化硅存在，二氧化碳也会被还原成一氧化碳。
因为反应的温度很高，在该反应温度下，普通玻璃会软化，所以装置D不能***用普通玻璃。（3）由于在高温下硅和氧气可以化合生成二氧化硅，所以必须排尽装置中的空气。
反应物 二氧化硅是一种常见的硅源，可以从矿石中提取或通过其他方法制备得到。碳是常见的还原剂，可以来自煤炭、焦炭等含碳物质。反应条件 该反应需要在高温环境下进行，通常在电炉或高温炉中进行。温度通常在1500°C至2000°C之间，以促进反应的进行。
因为该条件是高温，如果生成CO2，也会和C归中生成CO哦。
因此B中的试剂为浓H 2 SO 4 ，且C烧瓶需加热，其目的是使SiHCl 3 汽化，加快其与H 2 的反应速率。②石英管中产生的物质应为硅，故D中有固体产生，由题给信息，制纯硅的反应条件为1 100～1 200 ℃，此温度下普通的玻璃容易软化。
为什么粗硅可以溶解在稀盐酸中而纯硅却不能
1、这个硅之所以叫做金属硅，就已经是很纯的硅了，方程式里根本没有要求一定要粗硅才能反应，参加反应的是氯化氢，而不是盐酸。 因为这个反应如果有水就会马上造成三氯氢硅水解聚合。所以根本不明白你的问题从何说起的。硅不和盐酸反应，但是会和氯化氢反应。那是反应条件的限制，与是粗硅还是纯硅没关系。
2、首先，我们来了解一下实验涉及的物质特性。粗硅主要成分是硅，而其中的碳酸钙（CaCO3）是不溶于水的。稀盐酸是一种强酸，能够与碳酸钙发生化学反应，生成氯化钙、水和二氧化碳。然而，硅本身与盐酸并不发生反应。根据这些特性，我们可以推测实验过程中会产生两种液体：水和二氧化碳。
3、粗硅提纯后，可以得到可用作半导体材料的高纯硅。 （3）用途：①作半导体材料晶体管、集成电路、硅整流器和太阳能电池等；②制合金：含硅4%的钢具有良好的导磁性——变压器铁芯；含硅15%左右的钢具有良好的耐酸性——耐酸设备等。
...流程如图所示:(1)三氯氢硅的制备原理:Si(s)+3HCl(g)
三氯氢硅合成工艺 三氯氢硅合成的基本反应式为Si+3HCl=SiHCl3+H2。在三氯氢硅合成过程中，氯化氢的转化率一般为80%，有约20%的氯化氢未参加反应。生成的三氯氢硅气体，在冷媒温度为-40℃冷凝器中，冷凝效率为85%左右，约15%的三氯氢硅气体未冷凝。
C 正确答案：CSi（s）＋3HCl（g） == SiHCl 3 （g）＋H 2 （g） ΔH=-210 kJ/mol①Si（s）＋4HCl（g） == SiCl 4 （g）＋2H 2 （g） ΔH=-241 kJ/mol②①-②得SiCl 4 （g）＋H 2 （g） == SiHCl 3 （g）＋HCl（g） ΔH=+31 kJ/mol，C正确。
三氯氢硅SiHCl3 别名英文名 硅氯仿、硅仿、三氯硅烷；Trichlorosilane、Silicochloroform．用途 单晶硅原料、外延成长、硅液、硅油、化学气相淀积、硅酮化合物制造、电子气。制法 （1）在高温下Si和HCl反应。（2）用氢还原四氯化硅（***用含铝化合物的催化剂）。
三氯氢硅氢还原法优缺点：使用四氯化硅与氢气反应生产多晶硅的反应比较难，比三氯氢硅与氢气反应难，能耗很高。优点是效果好。
化学大佬进!
A. Na2CO3 和 NaHCO3：在第一次滴定中，Na2CO3和盐酸反应生成NaHCO3，而NaHCO3 在盐酸的作用下与甲基橙不会有明显的反应，所以V_1 应该小于V_2，与题目中给出的条件矛盾。B. NaOH 和 Na2CO3：在第一次滴定中，NaOH与盐酸反应生成水和NaCl，而Na2CO3与盐酸反应生成NaHCO3。
苯甲烷 苯甲烷，有机化学很注重官能团，反应都是找官能团的特征反应，像苯甲烷它的官能团是烷基碳原子（-CH3）和苯环碳原子两种，因为上面这是化学简式，化学式是这样的：烷烃能发生的一般性反应，烷基碳原子就能发生，像卤代（主要是与氯、溴、碘），卤族元素指周期系ⅦA族元素。
元素的化合价往简单的说就是一个原子得到电子的数目，或者失去电子的数目。比如氯化钠当中一个钠原子，失去一个电子那么钠元素的化合价就是正一价。氯原子得到一个电子编氯离子，那么氯元素的化合价就是负一价。还有更复杂的情况以后会知道。
一般情况下，如果不发生化学反应的话，单质是不易溶于水的。因为单质大多是非极性分子，而水是极性分子，根据相似相溶原理，极性分子易溶于极性分子，而非极性分子易溶于非极性分子。但是如果能发生化学反应的话会促进溶解，所以有些单质易溶于水。
这是取代反应。取代反应（substitution reaction）是指化合物分子中任何一个原子或原子团被试剂中同类型的其它原子或原子团所替代的反应，用通式表示为：R－L（反应基质）+A-B（进攻试剂）→R－A（取代产物）+L-B（离去基团）属于化学反应的一类。亲电取代反应。
气体是否溶于水属于其物理性质，是必须熟记的。能溶于的气体（如二氧化碳、氯化氢等）用排水集气法是收集不到的，因为它都溶于水中了。不溶于水的气体（如氢气、氧气等）能从水中逸出，就能收集于集气瓶中。通过以上现象就能作出正确的判断。
关于氯化氢与粗硅反应，以及氯化氢和粗硅反应的相关信息分享结束，感谢你的耐心阅读，希望对你有所帮助。
