三氯氧磷乙醇淬灭-三氯氧磷和乙醇反应机理
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三溴化硼二氯甲烷溶液取用
常用后处理方法二：将反应液冷却至-78℃，缓慢加入甲醇淬灭反应，生成的硼酸三甲酯可以减压蒸除。常用后处理方法三：如果底物稳定性好，可以参考三氯氧磷后处理方法【三氯氧磷参与的反应的后处理及注意事项】，直接旋蒸旋掉剩余的三溴化硼，然后再用甲醇淬灭，避免生成大量的酸气。
负78度滴加三溴化硼，室温过夜，除去 对甲氧基苯乙烯~~~ 的甲基，过夜后，产物有一半黑色副产物，产率只有45% 黑色物可溶氯仿，不溶水，极性较大。
无色至浅***。三溴化硼二氯甲烷溶液的颜色是呈现为无色至浅***。三溴化硼二氯甲烷溶液是一种由三溴化硼和二氯甲烷混合而成的溶液，用作有机合成和化学反应中的标准溶液。
水淬灭三氯氧磷时需要加尾气吸收装置嘛
常用后淬灭方法三：如果底物稳定性好，可以参考三氯氧磷后处理方法【 三氯氧磷参与的反应的后处理及注意事项 】，直接旋蒸旋掉剩余的三溴化硼，然后再用甲醇淬灭，避免生成大量的酸气。
三氯氧磷与氮气反不反应
扩散一般用三氯氧磷液态源作为扩散源。把P型硅片放在管式扩散炉的石英容器内，在850---900摄氏度高温下使用氮气将三氯氧磷带入石英容器，通过三氯氧磷和硅片进行反应，得到磷原子。
把P型硅片放在管式扩散炉的石英容器内，在850---900摄氏度高温下使用氮气将三氯氧磷带入石英容器，通过三氯氧磷和硅片进行反应，得到磷原子。经过一定时间，磷原子从四周进入硅片的表面层，并且通过硅原子之间的空隙向硅片内部渗透扩散，形成了N型半导体和P型半导体的交界面，也就是PN结。
目前适合于工业化生产的方法是先将氯化硼片加热、通氧，表面会生成三氯化二硼，再使其与硅晶体发生化学反应，这样形成的硼硅玻璃会沉积在硅晶体的表面。再利用氮气作为保护气氛，在高温条件下，使氮化硼进行扩散，便可形成pn结了。
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