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单质硅可不可以和氯化氢反-硅和氯化氢反应生成什么

氯化氢 196

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文章信息一览:

提供一下所有与硅单质有关的化学反应,谢谢!

1、工业:高纯度硅与纯氮气在1300度反应3Si+2N2=Si3N也可以用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成的Si3N4沉积在石墨表面,形成一层致密的Si3N4层。

2、A是对的,第一个反应是单质碳和二氧化硅反应生成单质硅和二氧化碳,属于单质和化合物生成新单质和新化合物,是置换反应。第三个反应是四氯化硅和单质氢气生成单质硅和氯化氢气体,也是单质和化合物生成新单质和新化合物,所以也是置换反应。

单质硅可不可以和氯化氢反-硅和氯化氢反应生成什么
(图片来源网络,侵删)

3、①常温下化学性质不活泼,只能跟FHF和NaOH溶液反应。Si+2F2=SiF4 Si+4HF=SiF4↑+2H2↑ Si+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2↑ ②在高温条件下,单质硅能与O2和Cl2等非金属单质反应。Si+O2= SiO2 Si+2Cl2= SiCl4 (4)硅的制备:工业上,用C在高温下还原SiO2可制得粗硅。

4、置换反应为一种单质与一种化合物反应生成另一种单质和另一种化合物。所以①③都是置换反应。A对。置换反应全部都是氧化还原反应,而有单质参加的化合反应也是氧化还原反应。所以①②③都是氧化还原反应。B对。两种或两种物质反应生成一种物质的反应叫化合反应。所以②是化合反应。C对。

5、碳和硅生成金刚砂,课本上有的。Si+C=SiC,条件是高温高压隔绝空气。

单质硅可不可以和氯化氢反-硅和氯化氢反应生成什么
(图片来源网络,侵删)

6、SiO+2SiC=3Si+2CO SiO+SiC+C=2Si+2CO 如果C不足,估计会部分生成SiC,部分还是SiO而CO应该是C和O反应生成的。

为什么硅只能和HF反映而不能和强酸反应?

1、硅的化学性质很不活泼,常温下不与水、酸等反应,但与碱能反应.强酸虽然有强氧化性,但硅原子结构是最外层4个电子,可以说是相当稳定了 HF中的F原子结构最外层有7个电子.加上与H结合形成氢键夺电子的能力非常强 HF氧化性太强了。硅(台湾、香港称矽xī)是一种化学元素,它的化学符号是Si,旧称矽。

2、因为你所接触到的酸,主要贡献都是H+离子。而硫酸硝酸这些氧化型酸的氧化性对二氧化硅没什么作用。氢氟酸腐蚀二氧化硅靠的是氟离子与硅生成[SiF6]2-配合物。

3、原因是反应的生成物四氟化硅的挥发性,稳定性.Si的卤化物都可以水解,但SiF4是唯一的例外,而其他的Si的卤化物都有强烈的水解反应,这样Si就不可以和HCl等酸反应.其次二氧化硅也只能与HF反应,原因也是因为其他的硅的卤化物与水反应后也不稳定。

4、硅是非金属,不能形成简单的阳离子 硅原子半径恰好使其周围可以容纳6个氟原子,而含氧酸根体积太大,在硅周围不能放下4个(即使是多元酸根,都跟一个硅原子成键要形成4元小环,张力很大,不稳定)氟离子是个很硬的碱,+4价硅离子是个很硬的酸,硬硬相配,比较稳定。

5、硅的金属性比铁等金属弱,与氧形成的键更接近共价键,所以不容易离子化,因此不与一般的酸反应,只能与HF酸反应,因为可以形成SiF4。相似的,碳的氧化物也不与酸反应。硅的氧化物可以与碱反应。

6、我来解释,hf能和sio2反应生成sif4气体脱离体系,根据化学平衡原理。有利于反应向sio2溶解的方向进行。所以反应能持续进行,其他酸不能溶解sio2是因为sio2性质稳定,与h+无作用。

硅单质及其化合物应用范围很广.(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅...

1、光导纤维的材料为SiO2,C正确。玻璃是一种玻璃态物质,无固定的熔点。盐酸不能与硅反应,而HCl在573 K以上的温度下可与硅发生反应。因此D、E都不正确。(3)有白色胶状沉淀生成,反应原理用化学反应方程式表示。点评:本题主要考查硅单质及其化合物的性质及其应用,综合性较强,考查学生的综合思维能力。

2、SiHcl3+H2=Si+3HCl (高温条件下)HCL再和粗Si在300度的条件下生成三氯甲硅烷和氢气。该反应是一可逆反应。反应达到一定平衡后就会达到动态平衡。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法,即通过上面化学得到单质硅是当前制备高纯硅的主要方法。

3、高纯硅的制备一般首先由硅石(SiO2)制得工业硅(粗硅),再制成高纯的多晶硅,最后拉制成半导体材料硅单晶。多晶硅,是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就结晶成多晶硅。

4、三氯甲硅烷和氢气在石英管中反应不能进行,是因为石英管的温度过高。三氯甲硅烷是一种易燃的有机物,它在与氢气反应时会产生热量,而石英管的温度可以达到1200摄氏度。如果将三氯甲硅烷和氢气放入石英管中反应,石英管的温度很可能会超过三氯甲硅烷的燃点,从而导致爆炸。

5、高纯硅的应用领域:高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素,形成p型硅半导体;掺入微量的第VA族元素,形成n型半导体。p型半导体和n型半导体结合在一起形成p-n结,就可做成太阳能电池,将辐射能转变为电能,在开发能源方面是一种很有前途的材料。

6、半导体材料有哪些?常用的半导体材料分为元素半导体和化合物半导体。元素半导体是由单一元素制成的半导体材料。主要有硅、锗、硒等,以硅、锗应用最广。化合物半导体分为二元系、三元系、多元系和有机化合物半导体。

高二化学:工业上粗硅可通过下列方法转变为纯硅:首先将粗硅与氯化氢

1、并且都有电子的得失,故二者均为置换反应和氧化还原反应。又由于①和②可看成向两个方向进行的反应,但反应条件不同,故不属于可逆反应,B错;一个化学反应的一个方向为放热反应,则另一方向必为吸热反应,C错;由平衡移动原理可知,提高SiHCl 3 产率,应***用减压和降温的办法,D错。

2、在这个反应中,二氧化硅(SiO2)与碳(C)反应,生成粗硅(Si(粗)和一氧化碳气体(CO↑)。这个反应是工业上制取纯硅的第一步,通过这个过程,将二氧化硅还原成硅。②Si(粗) + 2Cl2 → SiCl4 这个反应中,粗硅(Si(粗)与氯气(Cl2)反应,生成四氯化硅(SiCl4)。

3、ac(4)减压,升温(且加催化剂),1—5分钟 试题分析:(1)m(Si)=1/2n(H2)M(Si)=1/2×0.1mol/(L·min)×2L×3miin×28g/mol=4g(2)Si为固体,所以K=c(HCl) 4 /c(SiCl 4 )·c(H 2 ) 2 ,因为正反应为吸热反应,升温平衡向右移动,K增大。

4、-06-26 11:53 满天星8500 | 分类:化学 工业生产粗硅的主要原理为:SiO2 + 2C Si(粗) +2CO↑(1)若在制粗硅的过程中同时生成了碳化硅,且二者物质的量之比为1∶1,则参加反应的C和SiO2的质量比为 。

5、粗硅与氯气在高温条件下反应,生成氯化硅:Si(粗) + 2Cl2 → SiCl4 氯化硅与氢气在高温条件下反应,得到纯净硅:SiCl4 + 2H2 → Si(纯) + 4HCl 以上是硅的工业制法。

6、用焦炭与石英砂(SiO2)混合高温,产生粗硅。(SiO2+2C=高温=Si+2CO↑)将粗硅与氯气高温,生成四氯化硅。(Si+2Cl2=高温=SiCl4)将氢气与四氯化硅高温,生成单晶硅。

硅单质能和弱碱反应吗

SiO2酸性氧化物,能与碱起反应生成NaSiO3,容易使瓶塞和瓶颈粘在一起而不能打开。Si+NaOH+H2O=Na2Sio3+2H2 原理都是先和水反应生成相应的酸,然后再和碱反应生成相应的酸盐和水 SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O 生成物Na2SiO3有粘性。

硅和氢氧化钠不会发生直接的反应。一般情况下,硅和氢氧化钠在常温下不会发生明显的化学反应。但在高温和高压的条件下,硅和氢氧化钠可以发生一些反应。该反应产生的产物是硅酸钠和氢气。需要注意的是,这种反应通常需要在实验室条件下进行,而不是在常规情况下发生。

硅与碱反应的本质是si先和h 2 o反应,生成的硅酸(h 2 sio 3 )再和碱(如naoh)溶液发生反应。

可以和强碱溶液反应,氨水等不行:2NaOH+Si+H2O=Na2SiO3+2H2↑ 生成硅酸盐。

SiO2只能和HF反应,硝酸等都不反应,与HF反应生成四氟化硅和氢气。SiO2和强碱(NaOH,KOH,RbOH,CsOH,BaOH,SrOH)反应,最好加热,生成硅酸盐和水。

或:Si+2NaOH+4H2O=Na2SiO3+2H2↑+3H2O 反应原理:可以认为硅和水反应得到硅酸和氢气,就好比钠和水反应一样(硅具有一定是金属性),当然这里只是把上述反应看作是可逆反应,只是反应程度很缓慢。

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