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三氯氧磷扩散有那些反应-三氯氧磷分解产生什么

三氯氧磷 5个月前 (05-07) 33

本篇文章给大家分享三氯氧磷扩散有那些反应，以及三氯氧磷分解产生什么对应的知识点，希望对各位有所帮助。

文章信息一览：

1、三氯氧磷和水反应的方程式为POCl3 + 3H2O = H3PO4 + 3HCl↑ 。三氯氧磷是无色并且有***气味的液体，在潮湿空气中可以产生白烟，有强腐蚀性。这种烟雾是氯化氢结合空气中的水产生的盐酸小液滴。

2、三氯氧磷和水反应的化学方程式为：POCl3+3H2O=H3PO4+3HCl。三氯氧磷是无色液体，有***气味，在潮湿空气中强烈发烟，它不仅可以和水反应，还可以和醇反应。

（图片来源网络，侵删）

3、POCl3与水和醇反应，生成磷酸或磷酸酯，如：O=PCl3 + 3 H2O → O=P（OH）3 + 3 HCl若反应中醇代替水，则产物为三烷基磷酸酯。三溴氧磷有与三氯氧磷相似的毒性。

4、露于潮湿空气中，能水解成次磷酸和氯化氢，化学方程式为，进一步生成络合酸H3PCl6，发生白烟而变质。必须密封贮藏。遇乙醇和水起水解反应，遇氧能生成***。

1、但是更低的硅材料，比如冶金级硅和金属硅，一般在2N~4N，则对太阳能电池的转换效率影响就非常明显了，甚至连制造成本都回收不了，所以很有必要进行提纯处理。

（图片来源网络，侵删）

2、自从19世纪科学家们发现了晶体硅的半导体特性后，它几乎改变了一切，甚至人类的思维。20世纪末，我们的生活中处处可见“硅”的身影和作用，晶体硅太阳能电池是近15年来形成产业化最快的。

3、不光是太阳能电池，很多半导体器件都要掺杂，半导体中的杂质对电阻率的影响非常大。半导体中掺入微量杂质时，杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态，在禁带中产加的杂质能级。

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