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二氧化硅与氯化氢加热下反应吗-二氧化硅和氯水反应

氯化氢 37

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...高纯硅的方法如下:①用碳在高温下还原二氧化硅,可制得含有少量杂质的...

1、在高温下氢气将硅置换出来,生成单质硅,因此在装置D中有固体物质生成。因为反应的温度很高,在该反应温度下,普通玻璃会软化,所以装置D不能***用普通玻璃。(3)由于在高温下硅和氧气可以化合生成二氧化硅,所以必须排尽装置中的空气。

2、由于自然界没有单质硅存在,因此,我们使用的硅,都是从它的化合物中提取的。在工业上,用碳在高下还原二氧化硅的方法可制得含有少量杂质的粗硅。SiO2+2C Si+2CO↑ 将粗硅提纯后,可以得到用作半导体材料的高纯硅。

二氧化硅与氯化氢加热下反应吗-二氧化硅和氯水反应
(图片来源网络,侵删)

3、由于自然界没有单质硅存在,因此,我们使用的硅,都是从它的化合物中提取的。在工业上,用碳在高温下还原二氧化硅的方法可制得含有少量杂质的粗硅。SiO2+2C Si+2CO↑ 将粗硅提纯后,可以得到用作半导体材料的高纯硅。 二氧化硅 二氧化硅是硅的氧化物,它广泛存在于自然界中,与其他矿物共同构成了岩石。

4、A装置为Cl 2 的制备装置,B、C装置为除杂装置。先用B除去HCl,再用C(浓H 2 SO 4 )除去H 2 O蒸气。Cl 2 通入粗硅中反应,用冷水将产生SiCl 4 冷凝即可。(1)制取氯气用浓盐酸和MnO 2 在加热条件下反应。

高中化学除杂试剂的选取和原理!

用碱石灰,吸收二氧化碳,因为一氧化碳是不成盐氧化物,所以不会和碱石灰反应。饱和碳酸氢钠溶液,二氧化碳在其中的溶解度很小,而硫化氢(呈酸性)会和碱性的盐反应,所以可以用它。饱和食盐水,这是高中阶段强调很多次的东西了。原理是相似相溶。

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一 、 除杂选择试剂原则:除杂不引杂,并尽可能不消耗原样品。例如:除去NaCl中Na2CO3,选择盐酸,而不用硝酸或硫酸;除去CO2中的HCl,用饱和碳酸氢钠溶液,而不用水。

除杂试剂:水、 操作:分液 原理:等于是用水萃取硝基苯中的硝酸,具体原理见“萃取”。 TNT、苦味酸除杂可使用相同操作。气态卤代烃(卤化氢)除杂试剂:水 操作:洗气(需使用防倒吸装置) 原理:卤化氢易溶于水,可被水吸收,气态卤代烃不溶于水。

物质除杂的原则是:①不增,即在除去杂质的同时,不能引入新的杂质;②不减,即不能减少被提纯的物质;③简便,即分离操作简便易行;④易得,即除杂试剂价格便宜,容易得到;⑤最好,即所选用的方法在保证除去杂质的同时,最好能增加被提纯物质的量。

SiCl4在太阳高温照射(加热)下产生二氧化硅、氯化氢等物质。有谁能列出S...

第一步:SiO2+2C=高温=Si+2CO 第二步:Si+2Cl2=高温=SiCl4(l)注:上述两个反应就是制精硅的化学原理。

例如:SiCl4在氢气氛中加热可生成4HCl+Si,即[SiCl4+2H2→4HCl+Si]。

A是对的,第一个反应是单质碳和二氧化硅反应生成单质硅和二氧化碳,属于单质和化合物生成新单质和新化合物,是置换反应。第三个反应是四氯化硅和单质氢气生成单质硅和氯化氢气体,也是单质和化合物生成新单质和新化合物,所以也是置换反应。

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